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JANTX1N3036CUR-1 Microchip Technology jantx1n3036cur-1 37.3500
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JANTXV1N3036D-1 Microchip Technology jantxv1n3036d-1 36.2100
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JAN1N3036DUR-1 Microchip Technology JAN1N3036DUR-1 40.7250
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ECAD 9329 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3036 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 35.8 v 47 v 80 옴
JANTXV1N3038B-1 Microchip Technology jantxv1n3038b-1 11.8800
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ECAD 3285 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3038 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 42.6 v 56 v 110 옴
JAN1N3039BUR-1 Microchip Technology Jan1n3039bur-1 12.7350
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ECAD 3906 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3039 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 47.1 v 62 v 125 옴
JAN1N3017B-1 Microchip Technology JAN1N3017B-1 -
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JANTX1N3017CUR-1 Microchip Technology jantx1n3017cur-1 37.3500
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ECAD 3338 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3017 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 100 µa @ 5.7 v 7.5 v 4 옴
JANTX1N3017D-1 Microchip Technology jantx1n3017d-1 31.9500
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ECAD 3182 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3017 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 100 µa @ 5.7 v 7.5 v 4 옴
JAN1N3018C-1 Microchip Technology JAN1N3018C-1 19.5600
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ECAD 3403 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3018 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 150 µa @ 5.2 v 8.2 v 4.5 옴
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ECAD 3576 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3018 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 150 µa @ 5.2 v 8.2 v 4.5 옴
JANTX1N3018D-1 Microchip Technology jantx1n3018d-1 31.9500
RFQ
ECAD 2202 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3018 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 50 µa @ 6.2 v 8.2 v 4.5 옴
JAN1N3019CUR-1 Microchip Technology JAN1N3019CUR-1 32.5950
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ECAD 5618 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3019 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 150 µa @ 5.2 v 9.1 v 6 옴
JANTX1N3019D-1 Microchip Technology jantx1n3019d-1 31.9500
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ECAD 4467 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3019 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 25 µa @ 6.9 v 9.1 v 6 옴
JANTXV1N3020CUR-1 Microchip Technology jantxv1n3020cur-1 46.1250
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ECAD 2405 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3020 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 25 µa @ 7.6 v 10 v 7 옴
JANTX1N3021BUR-1 Microchip Technology jantx1n3021bur-1 14.5800
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ECAD 8963 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3021 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 8.4 v 11 v 8 옴
JANTXV1N3021D-1 Microchip Technology jantxv1n3021d-1 38.0400
RFQ
ECAD 3182 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3021 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 8.4 v 11 v 8 옴
JANTX1N3022BUR-1 Microchip Technology jantx1n3022bur-1 -
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ECAD 8004 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 9.1 v 12 v 9 옴
JAN1N3023C-1 Microchip Technology JAN1N3023C-1 17.3250
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ECAD 1706 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3023 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 9.9 v 13 v 10 옴
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ECAD 9874 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3023 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 9.9 v 13 v 10 옴
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ECAD 2193 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 11.4 v 15 v 14 옴
JAN1N3025B-1 Microchip Technology JAN1N3025B-1 -
RFQ
ECAD 7575 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 12.2 v 16 v 16 옴
JANTX1N4122C-1 Microchip Technology jantx1n4122c-1 16.4550
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ECAD 6555 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4122 500MW DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 27.4 v 36 v 200 옴
JAN1N4125CUR-1 Microchip Technology JAN1N4125CUR-1 22.3200
RFQ
ECAD 3928 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AA (유리) 1N4125 DO-213AA 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 na @ 35.8 v 47 v 250 옴
JAN1N4127C-1 Microchip Technology JAN1N4127C-1 10.5000
RFQ
ECAD 8146 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4127 DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 42.6 v 56 v 300 옴
JANTXV1N4127D-1 Microchip Technology jantxv1n4127d-1 28.9500
RFQ
ECAD 9167 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4127 500MW DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 42.6 v 56 v 300 옴
JANTXV1N4127UR-1 Microchip Technology jantxv1n4127ur-1 -
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ECAD 6694 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AA (유리) 500MW DO-213AA 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 42.6 v 56 v 300 옴
JAN1N4128CUR-1 Microchip Technology JAN1N4128CUR-1 22.3200
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ECAD 5230 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AA (유리) 1N4128 DO-213AA 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 na @ 45.6 v 60 v 400 옴
JANTXV1N4129-1 Microchip Technology jantxv1n4129-1 9.0450
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ECAD 9941 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4129 500MW DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 47.1 v 62 v 500 옴
JANTXV1N4129D-1 Microchip Technology jantxv1n4129d-1 28.9500
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ECAD 1388 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4129 500MW DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 47.1 v 62 v 500 옴
JAN1N4129UR-1 Microchip Technology Jan1n4129ur-1 8.7150
RFQ
ECAD 2878 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/435 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AA (유리) 1N4129 DO-213AA 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.1 v @ 200 ma 10 NA @ 47.1 v 62 v 500 옴
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고