SIC
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영상 제품 제품 가격 (USD) 수량 ECAD 사용 사용 수량 체중 (kg) Mfr 시리즈 패키지 제품 제품 용인 작동 작동 장착 장착 패키지 / 케이스 기본 기본 번호 전원 - 최대 공급 공급 장치 업체 데이터 데이터 rohs 상태 수분 수분 수준 (MSL) 상태에 상태에 다른 다른 ECCN HTSUS 표준 표준 전압- v (vf) (max) @ if 전류- 누출 리버스 @ vr 전압 -Zener (nom) (VZ) 임피던스 (() (ZZT)
1N5730C Microchip Technology 1N5730C 3.7200
RFQ
ECAD 4980 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5730 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 3 µa @ 2 v 5.6 v 25 옴
1N5733B Microchip Technology 1N5733B 1.8600
RFQ
ECAD 8784 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5733 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 2 µa @ 5 v 7.5 v 10 옴
1N5735C Microchip Technology 1N5735C 3.7200
RFQ
ECAD 2078 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5735 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 500 na @ 6 v 9.1 v 15 옴
1N5736B Microchip Technology 1N5736B 1.8600
RFQ
ECAD 7696 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5736 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 200 na @ 7 v 10 v 20 옴
1N5738B Microchip Technology 1N5738B 1.8600
RFQ
ECAD 1418 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5738 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 8 v 12 v 25 옴
1N5742D Microchip Technology 1N5742d 4.6800
RFQ
ECAD 2899 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5742 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 12 v 18 v 45 옴
1N5745B Microchip Technology 1N5745B 1.8600
RFQ
ECAD 6609 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5745 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 17 v 24 v 70 옴
1N5745C Microchip Technology 1N5745C 3.7200
RFQ
ECAD 2177 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5745 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 17 v 24 v 70 옴
1N5746C Microchip Technology 1N5746C 3.7200
RFQ
ECAD 4667 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5746 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 19 v 27 v 80 옴
1N5748C Microchip Technology 1N5748C 3.7200
RFQ
ECAD 1282 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5748 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 23 v 33 v 90 옴
1N5750B Microchip Technology 1N5750B 1.8600
RFQ
ECAD 7018 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N5750 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 900 mV @ 10 ma 100 na @ 27 v 39 v 130 옴
1N4896 Microchip Technology 1N4896 24.1650
RFQ
ECAD 3863 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -25 ° C ~ 100 ° C 구멍을 구멍을 DO-204AA, DO-7, 축 방향 1N4896 400MW DO-7 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 12.8 v 400 옴
1N4897A Microchip Technology 1N4897A 49.4550
RFQ
ECAD 4998 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 100 ° C 구멍을 구멍을 DO-204AA, DO-7, 축 방향 1N4897 400MW DO-7 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 12.8 v 400 옴
1N4910 Microchip Technology 1N4910 90.7200
RFQ
ECAD 6176 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -25 ° C ~ 100 ° C 구멍을 구멍을 DO-204AA, DO-7, 축 방향 1N4910 400MW DO-7 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 12.8 v 50 옴
1N4920A Microchip Technology 1N4920A 71.7900
RFQ
ECAD 2642 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 100 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4920 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 19.2 v 300 옴
1N4923A Microchip Technology 1N4923A 43.4700
RFQ
ECAD 7110 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 100 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N4923 500MW DO-35 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 19.2 v 150 옴
1N4959 Microchip Technology 1N4959 6.6150
RFQ
ECAD 4513 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 e, 축 방향 1N4959 5 w 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 v @ 1 a 10 µa @ 8.4 v 11 v 2.5 옴
1N4961 Microchip Technology 1N4961 8.7300
RFQ
ECAD 1224 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 e, 축 방향 1N4961 5 w 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2266-1N4961 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 v @ 1 a 10 µa @ 9.9 v 13 v 3 옴
1N4965US Microchip Technology 1N4965US 9.1950
RFQ
ECAD 6741 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Mell, e 1N4965 5 w D-5B 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 v @ 1 a 2 µa @ 15.2 v 20 v 4.5 옴
1N4968US Microchip Technology 1N4968US 9.1950
RFQ
ECAD 5877 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Mell, e 1N4968 5 w D-5B 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 v @ 1 a 2 µa @ 20.6 v 27 v 6 옴
1N4971 Microchip Technology 1N4971 6.9800
RFQ
ECAD 7926 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 e, 축 방향 1N4971 5 w 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 v @ 1 a 2 µA @ 27.4 v 36 v 11 옴
1N4978US Microchip Technology 1N4978US -
RFQ
ECAD 8181 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Mell, e 1N4978 5 w D-5B 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 v @ 1 a 2 µa @ 51.7 v 68 v 50 옴
1N3022B-1 Microchip Technology 1N3022B-1 8.1900
RFQ
ECAD 2535 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3022 1 W. DO-204AL (DO-41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 9.1 v 12 v 9 옴
1N3024BUR-1 Microchip Technology 1N3024BUR-1 15.3000
RFQ
ECAD 3865 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AB, MELF 1N3024 1 W. do-213ab 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 11.4 v 15 v 14 옴
1N3025BUR-1 Microchip Technology 1N3025BUR-1 15.3000
RFQ
ECAD 1708 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AB, MELF 1N3025 1 W. do-213ab 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 12.2 v 16 v 16 옴
1N3043BUR-1 Microchip Technology 1N3043BUR-1 15.3000
RFQ
ECAD 8789 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 DO-213AB, MELF 1N3043 1 W. do-213ab 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 69.2 v 91 v 250 옴
1N3308A Microchip Technology 1N3308A 49.3800
RFQ
ECAD 1353 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 10% -65 ° C ~ 175 ° C 섀시, 마운트 스터드 do-203ab, do-5, 스터드 1N3308 50 W. DO-5 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 V @ 10 a 25 µa @ 6.1 v 9.1 v 0.5 옴
1N3311RA Microchip Technology 1N3311RA 49.3800
RFQ
ECAD 2490 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 10% -65 ° C ~ 175 ° C 섀시, 마운트 스터드 do-203ab, do-5, 스터드 1N3311 50 W. DO-5 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 V @ 10 a 10 µa @ 9.1 v 12 v 1 옴
1N3313A Microchip Technology 1N3313A 49.3800
RFQ
ECAD 9948 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 10% -65 ° C ~ 175 ° C 섀시, 마운트 스터드 do-203ab, do-5, 스터드 1N3313 50 W. DO-5 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 V @ 10 a 10 µa @ 11.4 v 14 v 1.2 옴
1N3314A Microchip Technology 1N3314A 49.3800
RFQ
ECAD 7520 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 - 대부분 활동적인 ± 10% -65 ° C ~ 175 ° C 섀시, 마운트 스터드 do-203ab, do-5, 스터드 1N3314 50 W. DO-5 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.5 V @ 10 a 10 µa @ 11.4 v 15 v 1.4 옴
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고