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CR45810IC Magnetics, a division of Spang & Co. CR45810IC 2.0044
RFQ
 ECAD 2918 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 2.300 "(58.42mm) 1.500 "(38.10mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-CR45810IC 480 평면 e/i 0.160 "(4.06mm) - 코팅되지 코팅되지 9.821 µh 갭 갭 2300 68.3 305 20829 281
YW41303TC Magnetics, a division of Spang & Co. YW41303TC 1.4393
RFQ
 ECAD 2956 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 30% w - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-YW41303TC 2,600 토로이드 0.139 "(3.54mm) 0.500 "(12.70mm) Parylene 2.976 µh 갭 갭 10000 31.2 7.5 233
EQK3222E060L152 Magnetics, a division of Spang & Co. EQK3222E060L152 0.9615
RFQ
 ECAD 8686 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% mµ 1.260 "(32.00mm) 0.866 "(22.00mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-EQK3222E060L152 900 식 0.598 "(15.20mm) - 코팅되지 코팅되지 156 NH 갭 갭 60 79.9 152.3 12168
0059451A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059451A2 12.8285
RFQ
 ECAD 2735 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059451A2 240 토로이드 0.640 "(16.26mm) 1.689 "(42.90mm) 코팅되지 코팅되지 108 NH 갭 갭 60 102 147.5 15100
FR43208IC Magnetics, a division of Spang & Co. FR43208IC 0.5344
RFQ
 ECAD 5563 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 1.250 "(31.75mm) 0.800 "(20.32mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-FR43208IC 1,536 나 0.125 "(3.18mm) - 코팅되지 코팅되지 7.321 µh 갭 갭 2300 35.1 130 4560 130
EQX2619E075L101 Magnetics, a division of Spang & Co. EQX2619E075L101 0.8625
RFQ
 ECAD 9452 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-EQX2619E075L101 924
0J41810EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0J41810EC 0.2263
RFQ
 ECAD 6840 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - J. 0.753 "(19.13mm) 0.375 "(9.53mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0J41810EC 3,938 이자형 0.319 "(8.10mm) - 코팅되지 코팅되지 5 µh 갭 갭 5000 40.1 45.5 1820 45.4
RJ42316UG Magnetics, a division of Spang & Co. RJ42316UG 1.1736
RFQ
 ECAD 2002 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - J. 0.913 "(23.20mm) 0.425 "(10.80mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-rj42316ug 795 Rm 0.323 "(8.20mm) - 코팅되지 코팅되지 6.96 µh 갭 갭 5000 35.5 52 1850 36.9
ZJ41206TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZJ41206TC 0.2876
RFQ
 ECAD 9637 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 20% J. - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZJ41206TC 2,800 토로이드 0.272 "(6.91mm) 0.525 "(13.34mm) 에폭시 5.64 µh 갭 갭 5000 25 22 550
C055120A9 Magnetics, a division of Spang & Co. C055120A9 3.0174
RFQ
 ECAD 2869 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055120A9 1,000 토로이드 0.295 "(7.49mm) 0.695 "(17.65mm) 코팅 72 NH 갭 갭 125 41.2 19.2 791
00G4022E040 Magnetics, a division of Spang & Co. 00G4022E040 10.9029
RFQ
 ECAD 8673 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 1.687 "(42.85mm) 0.787 "(20.00mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-00G4022E040 540 이자형 0.830 "(21.08mm) - 코팅되지 코팅되지 140 NH 갭 갭 40 98.4 237 23300
0059599A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059599A2 40.2707
RFQ
 ECAD 4450 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059599A2 126 토로이드 0.768 "(19.50mm) 2.346 "(59.60mm) 코팅되지 코팅되지 124 NH 갭 갭 60 143 237 33900
0075100A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0075100A7 17.0033
RFQ
 ECAD 8987 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 75 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0075100A7 75 토로이드 0.650 "(16.50mm) 4.000 "(101.60mm) 코팅되지 코팅되지 74 NH 갭 갭 40 243 358 86900
C055544A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C055544A2 64.1794
RFQ
 ECAD 3866 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055544A2 250 토로이드 0.450 "(11.45mm) 1.325 "(33.66mm) 코팅 559 NH 갭 갭 550 81.4 65.6 5340
0R44022EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0R44022EC 1.0123
RFQ
 ECAD 9342 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 1.693 "(43.00mm) 0.787 "(20.00mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0R44022EC 1,080 이자형 0.827 "(21.00mm) - 코팅되지 코팅되지 5.533 µh 갭 갭 2300 97 233 22700 233
0058727A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0058727A2 34.0067
RFQ
 ECAD 8467 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0058727A2 140 토로이드 0.820 "(20.83mm) 1.990 "(50.55mm) 코팅되지 코팅되지 76 NH 갭 갭 26 113.5 262 29700
ZF46113TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZF46113TC 5.7721
RFQ
 ECAD 2746 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 20% 에프 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZF46113TC 192 토로이드 0.525 "(13.34mm) 2.450 "(62.23mm) 에폭시 4.107 µh 갭 갭 3000 144.6 157.4 22774
0T45528EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0T45528EC 3.5582
RFQ
 ECAD 7669 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 티 2.213 "(56.20mm) 0.827 "(21.00mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0T45528EC 640 이자형 1.083 "(27.50mm) - 코팅되지 코팅되지 8.625 µh 갭 갭 3000 124 353 44000 345
EQH5032E026L200 Magnetics, a division of Spang & Co. EQH5032E026L200 13.4588
RFQ
 ECAD 2161 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 1.969 "(50.00mm) 1.260 "(32.00mm) - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-EQH5032E026L200 96 식 0.787 "(20.00mm) - 코팅되지 코팅되지 109 NH 갭 갭 26 113 314 35600
0055905A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0055905A2 132.1565
RFQ
 ECAD 4755 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0055905A2 40 토로이드 0.625 "(15.88mm) 3.063 "(77.80mm) 코팅되지 코팅되지 208 NH 갭 갭 147 196 년 221 43400
ZF42507TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZF42507TC 1.0902
RFQ
 ECAD 2057 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 20% 에프 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZF42507TC 1,080 토로이드 0.337 "(8.55mm) 1.035 "(26.29mm) 에폭시 2.348 µh 갭 갭 3000 61.5 39 2361
0F43515EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0F43515EC 0.4002
RFQ
 ECAD 8193 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 에프 1.346 "(34.20mm) 0.366 "(9.30mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0F43515EC 2,688 이자형 0.555 "(14.10mm) - 코팅되지 코팅되지 3.5 µh 갭 갭 3000 69.3 87 5590 87
0055336A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0055336A2 691.1631
RFQ
 ECAD 8852 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0055336A2 16 토로이드 1.000 "(25.40mm) 5.219 "(132.56mm) 코팅되지 코팅되지 37 NH 갭 갭 14 324 678 220000
0077431A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0077431A7 3.5350
RFQ
 ECAD 6968 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool mu - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0077431A7 315 토로이드 0.710 "(18.03mm) 1.840 "(46.74mm) 코팅되지 코팅되지 90 NH 갭 갭 40 107 199 21300
0R41808EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0R41808EC 0.1114
RFQ
 ECAD 2707 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 0.752 "(19.10mm) 0.187 "(4.75mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0R41808EC 9,091 이자형 0.319 "(8.10mm) - 코팅되지 코팅되지 1.153 µh 갭 갭 2300 39.9 22.6 900 22.1
ZP49725TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZP49725TC 24.0443
RFQ
 ECAD 2599 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 피 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZP49725TC 40 토로이드 1.026 "(26.05mm) 4.311 "(109.50mm) 에폭시 6.23 µh 갭 갭 2500 259.31 514.3 133351
0055340A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0055340A2 691.1631
RFQ
 ECAD 3150 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0055340A2 16 토로이드 1.000 "(25.40mm) 5.219 "(132.56mm) 코팅되지 코팅되지 329 NH 갭 갭 125 324 678 220000
C055145A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C055145A2 6.2761
RFQ
 ECAD 4959 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055145A2 750 토로이드 0.125 "(3.18mm) 0.180 "(4.57mm) 코팅 84 NH 갭 갭 300 9.42 2.11 19.9
DP42311UG Magnetics, a division of Spang & Co. DP42311UG 0.8306
RFQ
 ECAD 1281 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 피 0.900 "(22.86mm) 0.600 "(15.25mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-DP42311UG 1,008 식 0.436 "(11.08mm) - 코팅되지 코팅되지 3.747 µh 갭 갭 2500 26.8 51.2 1370 37.8
ZF47313TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZF47313TC 6.4085
RFQ
 ECAD 5890 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 20% 에프 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZF47313TC 144 토로이드 0.525 "(13.34mm) 2.955 "(75.06mm) 에폭시 4.88 µh 갭 갭 3000 165 210 34771
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고

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