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페라이트 페라이트 (2370)

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0P49718TC Magnetics, a division of Spang & Co. 0p49718TC 15.2485
RFQ
 ECAD 9355 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 피 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0P49718TC 72 토로이드 0.709 "(18.00mm) 4.213 "(107.00mm) 코팅되지 코팅되지 4.486 µh 갭 갭 2500 259.31 320.27 96013
0059211A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059211A2 1.8433
RFQ
 ECAD 6359 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059211A2 1,600 토로이드 0.250 "(6.35mm) 0.800 "(20.32mm) 코팅되지 코팅되지 41 NH 갭 갭 75 50.9 22.1 1120
0059442A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059442A2 25.2876
RFQ
 ECAD 3493 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059442A2 105 토로이드 0.710 "(18.03mm) 1.840 "(46.74mm) 코팅되지 코팅되지 202 NH 갭 갭 90 107.4 198 21300
C055930A2HT23 Magnetics, a division of Spang & Co. C055930A2HT23 14.6157
RFQ
 ECAD 7467 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055930A2HT23 200 토로이드 0.906 "(23.00mm) 1.090 "(27.69mm) 코팅 314 NH 갭 갭 125 63.5 131 8320
0F41814UG Magnetics, a division of Spang & Co. 0F41814UG 0.9085
RFQ
 ECAD 7151 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 에프 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0F41814UG 1,080 피 0.280 "(7.11mm) 0.709 "(18.00mm) 코팅되지 코팅되지 3.35 µh 갭 갭 3000 29.3 42.6 1248 36
RJ41812UG Magnetics, a division of Spang & Co. RJ41812UG 1.1681
RFQ
 ECAD 8911 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - J. 0.701 "(17.90mm) 0.291 "(7.40mm) - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-RJ41812UG 2,184 Rm 0.244 "(6.20mm) - 코팅되지 코팅되지 5.973 µh 갭 갭 5000 25.6 32 819 22.6
0055599A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0055599A2 113.6694
RFQ
 ECAD 2193 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0055599A2 63 토로이드 0.768 "(19.50mm) 2.346 "(59.60mm) 코팅되지 코팅되지 124 NH 갭 갭 60 143 237 33900
0079726A7HT25 Magnetics, a division of Spang & Co. 0079726A7HT25 8.5380
RFQ
 ECAD 5661 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool Mu Max - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0079726A7HT25 140 토로이드 0.949 "(24.10mm) 1.990 "(50.55mm) 코팅되지 코팅되지 202 NH 갭 갭 60 113.5 305 34400
0077071A7HT22 Magnetics, a division of Spang & Co. 0077071A7HT22 2.3240
RFQ
 ECAD 1195 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool mu - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0077071A7HT22 450 토로이드 0.839 "(21.30mm) 1.291 "(32.80mm) 코팅되지 코팅되지 122 NH 갭 갭 60 81.4 131.2 10700
0058313A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0058313A2 3.3835
RFQ
 ECAD 9348 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0058313A2 1,000 토로이드 0.300 "(7.60mm) 0.900 "(22.86mm) 코팅되지 코팅되지 9.9 NH 갭 갭 14 56.7 31.7 1800
0L41126EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0L41126EC 0.5176
RFQ
 ECAD 5080 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 엘 0.433 "(11.00mm) 0.236 "(6.00mm) - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0L41126EC 6,006 ER 0.096 "(2.45mm) - 코팅되지 코팅되지 610 NH 갭 갭 900 14.7 11.9 174 10.3
LPH3222E060L152 Magnetics, a division of Spang & Co. LPH3222E060L152 4.2703
RFQ
 ECAD 5625 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 1.260 "(32.00mm) 0.866 "(22.00mm) - 다운로드 ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-LPH3222E060L152 240 엘프 0.598 "(15.20mm) - 코팅되지 코팅되지 141 NH 갭 갭 60 82.1 143 11740
0075100A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0075100A7 17.0033
RFQ
 ECAD 8987 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 75 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0075100A7 75 토로이드 0.650 "(16.50mm) 4.000 "(101.60mm) 코팅되지 코팅되지 74 NH 갭 갭 40 243 358 86900
C055344A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C055344A2 5.2651
RFQ
 ECAD 6569 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055344A2 720 토로이드 0.380 "(9.65mm) 0.958 "(24.33mm) 코팅 146 NH 갭 갭 173 58.8 38.8 2280
YW41005TC Magnetics, a division of Spang & Co. YW41005TC 0.2652
RFQ
 ECAD 6320 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 30% w - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-YW41005TC 3,800 토로이드 0.201 "(5.10mm) 0.393 "(9.99mm) Parylene 6.616 µh 갭 갭 10000 20.7 10.9 227
0078930A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0078930A7 1.0605
RFQ
 ECAD 4995 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% xflux - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0078930A7 800 토로이드 0.440 "(11.18mm) 1.060 "(26.92mm) 코팅되지 코팅되지 157 NH 갭 갭 125 63.5 65.4 4150
0W41305TC Magnetics, a division of Spang & Co. 0W41305TC 0.1994
RFQ
 ECAD 6443 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 30% w - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0W41305TC 5,377 토로이드 0.200 "(5.08mm) 0.500 "(12.70mm) 코팅되지 코팅되지 4.76 µh 갭 갭 10000 31.2 11.9 372
0078315A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0078315A7 0.7138
RFQ
 ECAD 3272 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% xflux - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0078315A7 1,000 토로이드 0.300 "(7.60mm) 0.900 "(22.86mm) 코팅되지 코팅되지 54 NH 갭 갭 75 56.7 31.7 1800
ZP43615TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZP43615TC 1.4180
RFQ
 ECAD 4500 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 피 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZP43615TC 700 토로이드 0.614 "(15.60mm) 1.463 "(37.15mm) 에폭시 3.366 µh 갭 갭 2500 89.6 93.3 8366
ZJ41610TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZJ41610TC 0.4722
RFQ
 ECAD 6588 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 20% J. - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZJ41610TC 3,200 토로이드 0.395 "(10.03mm) 0.655 "(16.64mm) 에폭시 5.41 µh 갭 갭 5000 37.2 31.2 1164
C055114A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C055114A2 1.4519
RFQ
 ECAD 6253 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055114A2 1,000 토로이드 0.280 "(7.11mm) 0.680 "(17.27mm) 코팅 104 NH 갭 갭 173 41.2 19.2 791
0079873A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0079873A7 10.6909
RFQ
 ECAD 5964 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool Mu Max - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0079873A7 90 토로이드 0.500 "(12.70mm) 3.063 "(77.80mm) 코팅되지 코팅되지 22 NH 갭 갭 19 196 년 176 34500
0058727A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0058727A2 34.0067
RFQ
 ECAD 8467 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0058727A2 140 토로이드 0.820 "(20.83mm) 1.990 "(50.55mm) 코팅되지 코팅되지 76 NH 갭 갭 26 113.5 262 29700
CR45810IC Magnetics, a division of Spang & Co. CR45810IC 2.0044
RFQ
 ECAD 2918 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 2.300 "(58.42mm) 1.500 "(38.10mm) - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-CR45810IC 480 평면 e/i 0.160 "(4.06mm) - 코팅되지 코팅되지 9.821 µh 갭 갭 2300 68.3 305 20829 281
EQH4128E026L120 Magnetics, a division of Spang & Co. EQH4128E026L120 5.5298
RFQ
 ECAD 5796 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 1.634 "(41.50mm) 1.102 "(28.00mm) - 다운로드 ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-EQH4128E026L120 200 식 0.472 "(12.00mm) - 코팅되지 코팅되지 94 NH 갭 갭 26 83.6 200 16700
LPX2314E075L087 Magnetics, a division of Spang & Co. LPX2314E075L087 0.7008
RFQ
 ECAD 2452 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% xflux 0.921 "(23.39mm) 0.551 "(14.00mm) - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-LPX2314E075L087 1,260 엘프 0.343 "(8.70mm) - 코팅되지 코팅되지 134 NH 갭 갭 75 49.1 67 3290
00X4020E060 Magnetics, a division of Spang & Co. 00x4020E060 2.1271
RFQ
 ECAD 7093 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% xflux 1.687 "(42.85mm) 0.608 "(15.44mm) - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-00x4020E060 480 이자형 0.830 "(21.08mm) - 코팅되지 코팅되지 150 NH 갭 갭 60 98.4 183 18000
0079553A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0079553A7 2.1008
RFQ
 ECAD 4496 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% mµ - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-0079553A7 500 토로이드 0.420 "(10.67mm) 1.291 "(32.80mm) 코팅되지 코팅되지 76 NH 갭 갭 75 81.4 65.6 5340
EQH3626E060L100 Magnetics, a division of Spang & Co. EQH3626E060L100 4.5531
RFQ
 ECAD 4542 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 1.417 "(36.00mm) 1.024 "(26.00mm) - 다운로드 ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-EQH3626E060L100 300 식 0.394 "(10.00mm) - 코팅되지 코팅되지 224 NH 갭 갭 60 65.1 181 11800
ZF40907TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZF40907TC 0.4002
RFQ
 ECAD 1304 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 에프 - - - - ROHS3 준수 적용 적용 수 할 4616-ZF40907TC 10,400 토로이드 0.302 "(7.66mm) 0.400 "(10.15mm) 에폭시 2.26 µh 갭 갭 3000 22.7 13.7 310
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고

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