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페라이트 페라이트 (2370)

영상 제품 제품 가격 (USD) 수량 ECAD 사용 사용 수량 체중 (kg) Mfr 시리즈 패키지 제품 제품 용인 재료 길이 너비 공급 공급 장치 업체 데이터 데이터 rohs 상태 수분 수분 수준 (MSL) 상태에 상태에 다른 다른 ECCN HTSUS 표준 표준 핵심 핵심 키 지름 마치다 인덕턴스 인덕턴스 (al) 갭 초기 초기 (µi) 유효 유효 (le) mm 유효 유효 (ae) mm² 유효 유효 부피 (VE) mm³ 최소 최소 단면 (아민) mm²
0055033A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0055033A2 1.8685
RFQ
 ECAD 5966 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0055033A2 1,000 토로이드 0.125 "(3.18mm) 0.310 "(7.87mm) 코팅되지 코팅되지 6 NH 갭 갭 14 17.9 5.99 107
0059073A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059073A2 95.9571
RFQ
 ECAD 2196 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059073A2 35 토로이드 0.787 "(20.00mm) 2.677 "(68.00mm) 코팅되지 코팅되지 100 NH 갭 갭 40 158.1 314 49700
0R44818EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0R44818EC 1.4862
RFQ
 ECAD 1820 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 1.890 "(48.00mm) 0.693 "(17.60mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0R44818EC 604 eer 0.709 "(18.00mm) - 코팅되지 코팅되지 6.4 µh 갭 갭 2300 86 232 19900 223
0P42520EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0p42520ec 0.2770
RFQ
 ECAD 2637 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 피 1.000 "(25.40mm) 0.500 "(12.70mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0P42520EC 2,880 이자형 0.380 "(9.65mm) - 코팅되지 코팅되지 3.84 µh 갭 갭 2500 48 78.4 3760 76.8
0C40502TC Magnetics, a division of Spang & Co. 0C40502TC 0.0467
RFQ
 ECAD 8624 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 기음 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0C40502TC 72,000 토로이드 0.050 "(1.27mm) 0.155 "(3.94mm) 코팅되지 코팅되지 129 NH 갭 갭 900 9.21 1.05 9.68
0R45530EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0R45530EC 2.4028
RFQ
 ECAD 8965 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 2.213 "(56.20mm) 0.969 "(24.61mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0R45530EC 480 이자형 1.083 "(27.50mm) - 코팅되지 코팅되지 7.52 µh 갭 갭 2300 123 420 52000 411
0077100A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0077100A7 15.9317
RFQ
 ECAD 9203 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool mu - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0077100A7 75 토로이드 0.650 "(16.51mm) 4.000 "(101.60mm) 코팅되지 코팅되지 74 NH 갭 갭 40 243 358 86900
0P43521EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0p43521ec 0.6513
RFQ
 ECAD 8684 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 피 1.378 "(35.00mm) 0.449 "(11.40mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0p43521ec 1,680 eer 0.815 "(20.70mm) - 코팅되지 코팅되지 2.96 µh 갭 갭 2500 90.8 107 9710 100
0075351A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0075351A7 0.8177
RFQ
 ECAD 6279 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 75 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0075351A7 1,440 토로이드 0.350 "(8.90mm) 0.928 "(23.57mm) 코팅되지 코팅되지 51 NH 갭 갭 60 58.8 38.8 2280
0F41811A630 Magnetics, a division of Spang & Co. 0F41811A630 3.0825
RFQ
 ECAD 3555 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0F41811A630 250
ZW41005TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZW41005TC 0.9500
RFQ
 ECAD 2 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 30% w - - - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 4616-ZW41005TC 귀 99 8504.90.9630 3,400 토로이드 0.213 "(5.40mm) 0.405 "(10.29mm) 에폭시 6.616 µh 갭 갭 10000 20.7 10.9 227
0P41303TC Magnetics, a division of Spang & Co. 0p41303TC 0.1477
RFQ
 ECAD 9576 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 피 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0P41303TC 31,200 토로이드 0.125 "(3.18mm) 0.500 "(12.70mm) 코팅되지 코팅되지 745 NH 갭 갭 2500 31.7 7.1 226
0077824A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0077824A7 0.4697
RFQ
 ECAD 1088 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 12% Kool mu - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0077824A7 10,000 토로이드 0.110 "(2.79mm) 0.250 "(6.35mm) 코팅되지 코팅되지 36 NH 갭 갭 90 13.6 4.7 64
0079357A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0079357A7 1.2867
RFQ
 ECAD 1140 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool Mu Max - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0079357A7 720 토로이드 0.350 "(8.90mm) 0.928 "(23.57mm) 코팅되지 코팅되지 16 NH 갭 갭 19 58.8 38.8 2280
0R44008IC Magnetics, a division of Spang & Co. 0R44008IC 0.4241
RFQ
 ECAD 6268 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 1.600 "(40.64mm) 0.421 "(10.70mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0R44008IC 2,025 나 0.175 "(4.45mm) - 코팅되지 코팅되지 4.744 µh 갭 갭 2300 43.8 99.5 4360 95.1
ZW48613TC Magnetics, a division of Spang & Co. ZW48613TC 23.6800
RFQ
 ECAD 172 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 30% w - - - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 4616-ZW48613TC 귀 99 8504.90.9630 96 토로이드 0.538 "(13.67mm) 3.465 "(88.02mm) 에폭시 11.04 µh 갭 갭 10000 215 189 40852
0R43019A250 Magnetics, a division of Spang & Co. 0R43019A250 4.3268
RFQ
 ECAD 3246 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 아르 아르 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0R43019A250 240 피 0.744 "(18.90mm) 1.181 "(30.00mm) 코팅되지 코팅되지 250 NH 갭 갭 2300 45.2 137 6190
C058280A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C058280A2 0.7196
RFQ
 ECAD 5061 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-C058280A2 4,000 토로이드 0.150 "(3.81mm) 0.405 "(10.29mm) 코팅 53 NH 갭 갭 125 21.8 7.52 164
00K130LE060 Magnetics, a division of Spang & Co. 00K130LE060 29.4872
RFQ
 ECAD 8952 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-00K130LE060 32
0077328A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0077328A7 1.6226
RFQ
 ECAD 2751 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% Kool mu - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0077328A7 660 토로이드 0.412 "(10.46mm) 1.410 "(35.81mm) 코팅되지 코팅되지 84 NH 갭 갭 90 89.8 67.8 6090
0P42510EC Magnetics, a division of Spang & Co. 0p42510ec 0.1280
RFQ
 ECAD 2175 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 피 1.000 "(25.40mm) 0.250 "(6.35mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0P42510EC 8,064 이자형 0.380 "(9.65mm) - 코팅되지 코팅되지 1.92 µh 갭 갭 2500 49 39.5 1930 37
00K8030B026HT35 Magnetics, a division of Spang & Co. 00K8030B026HT35 10.0172
RFQ
 ECAD 3891 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - Kool mu 3.169 "(80.50mm) 1.378 "(35.00mm) - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-00K8030B026HT35 108 나 1.193 "(30.30mm) - 코팅되지 코팅되지 갭 갭 26 85400
0059351A2HT15 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059351A2HT15 4.6349
RFQ
 ECAD 5635 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 - 가장자리 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059351A2HT15 480 토로이드 0.591 "(15.00mm) 0.961 "(24.40mm) 코팅되지 코팅되지 80 NH 갭 갭 60 58.8 60 3580
0059777A2 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059777A2 103.8064
RFQ
 ECAD 7785 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059777A2 25 토로이드 1.018 "(25.86mm) 3.063 "(77.80mm) 코팅되지 코팅되지 205 NH 갭 갭 60 177.2 492 87100
0075110A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0075110A7 4.4541
RFQ
 ECAD 2033 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 75 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0075110A7 180 토로이드 0.550 "(13.97mm) 2.250 "(57.15mm) 코팅되지 코팅되지 75 NH 갭 갭 60 143 144 20700
0059451A2S01 Magnetics, a division of Spang & Co. 0059451A2S01 22.9848
RFQ
 ECAD 6644 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 가장자리 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0059451A2S01 120 토로이드 0.640 "(16.26mm) 1.689 "(42.90mm) 코팅되지 코팅되지 108 NH 갭 갭 60 102.6 146 15000
0077414A7 Magnetics, a division of Spang & Co. 0077414A7 0.4861
RFQ
 ECAD 7669 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 12% Kool mu - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0077414A7 10,000 토로이드 0.200 "(5.08mm) 0.270 "(6.86mm) 코팅되지 코팅되지 50 NH 갭 갭 90 16.5 7.25 120
0L41003TC Magnetics, a division of Spang & Co. 0L41003TC 0.1204
RFQ
 ECAD 3039 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 25% 엘 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-0L41003TC 5,200 토로이드 0.125 "(3.18mm) 0.375 "(9.53mm) 코팅되지 코팅되지 332 NH 갭 갭 900 20.7 7.3 151
C055547A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C055547A2 8.4658
RFQ
 ECAD 4856 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% MPP - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-C055547A2 500 토로이드 0.450 "(11.45mm) 1.325 "(33.66mm) 코팅 150 NH 갭 갭 147 81.4 65.6 5340
C058213A2 Magnetics, a division of Spang & Co. C058213A2 25.7194
RFQ
 ECAD 4238 0.00000000 Spang & Co.. 부서 인 자기. - 대부분 활동적인 ± 8% 높은 높은 - - - - Rohs3 준수 적용 적용 수 할 4616-C058213A2 90 토로이드 0.585 "(14.86mm) 2.285 "(58.04mm) 코팅 112 NH 갭 갭 90 143 144 20700
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고

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