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영상 제품 제품 가격 (USD) 수량 ECAD 사용 사용 수량 체중 (kg) Mfr 시리즈 패키지 제품 제품 용인 작동 작동 장착 장착 패키지 / 케이스 기본 기본 번호 전원 - 최대 공급 공급 장치 업체 데이터 데이터 rohs 상태 수분 수분 수준 (MSL) 상태에 상태에 ECCN HTSUS 표준 표준 전압- v (vf) (max) @ if 전류- 누출 리버스 @ vr 전압 -Zener (nom) (VZ) 임피던스 (() (ZZT)
JANTX1N4480C Microchip Technology jantx1n4480c 22.5300
RFQ
ECAD 1676 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N4480 1.5 w DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 50 na @ 34.4 v 43 v 40
JAN1N4480DUS Microchip Technology JAN1N4480DUS 34.6050
RFQ
ECAD 6037 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Melf, a 1N4480 1.5 w D-5A 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 50 na @ 34.4 v 43 v 40
JANTX1N4480DUS Microsemi Corporation jantx1n4480dus 49.5750
RFQ
ECAD 6784 0.00000000 Microsemi Corporation 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Melf, a 1N4480 1.5 w D-5A 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 50 na @ 34.4 v 43 v 40
JANTX1N4482D Microchip Technology jantx1n4482d 40.6950
RFQ
ECAD 6570 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N4482 1.5 w DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 50 NA @ 40.8 v 51 v 60 옴
JAN1N4483D Microchip Technology Jan1n4483d 25.4550
RFQ
ECAD 7415 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N4483 1.5 w DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 NA @ 44.8 v 56 v 70 옴
JANTX1N4484 Microchip Technology jantx1n4484 5.4150
RFQ
ECAD 7276 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N4484 1.5 w DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 NA @ 49.6 v 62 v 80 옴
JAN1N4485CUS Microchip Technology JAN1N4485CUS 27.6750
RFQ
ECAD 3206 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Melf, a 1N4485 1.5 w D-5A 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 NA @ 54.4 v 68 v 100 옴
JAN1N4486 Microchip Technology JAN1N4486 8.1900
RFQ
ECAD 2342 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N4486 1.5 w DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 na @ 60 v 75 v 130 옴
JANTXV1N4489 Microchip Technology jantxv1n4489 12.8850
RFQ
ECAD 9484 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N4489 1.5 w DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 NA @ 80 v 100 v 250 옴
JANTX1N4491DUS Microsemi Corporation jantx1n4491dus 49.5750
RFQ
ECAD 7293 0.00000000 Microsemi Corporation 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Melf, a 1N4491 1.5 w D-5A 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 NA @ 96 v 120 v 400 옴
JANTX1N4492DUS Microsemi Corporation jantx1n4492dus 49.5750
RFQ
ECAD 6962 0.00000000 Microsemi Corporation 군사, MIL-PRF-19500/406 대부분 활동적인 ± 1% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Melf, a 1N4492 1.5 w D-5A 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1 v @ 200 ma 250 NA @ 104 v 130 v 500 옴
JAN1N3017B-1 Microchip Technology JAN1N3017B-1 -
RFQ
ECAD 4641 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 150 µa @ 5.2 v 7.5 v 4 옴
JANTX1N3017CUR-1 Microchip Technology jantx1n3017cur-1 37.3500
RFQ
ECAD 3338 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3017 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 100 µa @ 5.7 v 7.5 v 4 옴
JANTX1N3017D-1 Microchip Technology jantx1n3017d-1 31.9500
RFQ
ECAD 3182 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3017 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 100 µa @ 5.7 v 7.5 v 4 옴
JANTX1N3018D-1 Microchip Technology jantx1n3018d-1 31.9500
RFQ
ECAD 2202 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3018 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 50 µa @ 6.2 v 8.2 v 4.5 옴
JANTX1N3019D-1 Microchip Technology jantx1n3019d-1 31.9500
RFQ
ECAD 4467 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3019 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 25 µa @ 6.9 v 9.1 v 6 옴
JANTXV1N3020CUR-1 Microchip Technology jantxv1n3020cur-1 46.1250
RFQ
ECAD 2405 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3020 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 25 µa @ 7.6 v 10 v 7 옴
JANTX1N3021BUR-1 Microchip Technology jantx1n3021bur-1 14.5800
RFQ
ECAD 8963 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 do-213ab, melf (유리) 1N3021 1 W. do-213ab (Melf, LL41) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 8.4 v 11 v 8 옴
JANTXV1N3021D-1 Microchip Technology jantxv1n3021d-1 38.0400
RFQ
ECAD 3182 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3021 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 8.4 v 11 v 8 옴
JAN1N3023C-1 Microchip Technology JAN1N3023C-1 17.3250
RFQ
ECAD 1706 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 2% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3023 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 9.9 v 13 v 10 옴
JAN1N3023D-1 Microchip Technology Jan1n3023d-1 21.6750
RFQ
ECAD 9874 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 활동적인 ± 1% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1N3023 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 9.9 v 13 v 10 옴
JAN1N3025B-1 Microchip Technology JAN1N3025B-1 -
RFQ
ECAD 7575 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/115 대부분 sic에서 중단되었습니다 ± 5% -55 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 do-204al, do-41, 축 방향 1 W. DO-41 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.2 v @ 200 ma 10 µa @ 12.2 v 16 v 16 옴
CMSZ5254B TR PBFREE Central Semiconductor Corp CMSZ5254B TR PBFREE 0.5100
RFQ
ECAD 5 0.00000000 Central Semiconductor Corp - 테이프 & tr (TR) 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 150 ° C 표면 표면 SC-70, SOT-323 CMSZ5254 275 MW SOT-323 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 3,000 900 mV @ 10 ma 100 na @ 21 v 27 v 41 옴
CZ5348B TR PBFREE Central Semiconductor Corp CZ5348B TR PBFREE 1.0300
RFQ
ECAD 2 0.00000000 Central Semiconductor Corp - 테이프 & tr (TR) 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 200 ° C 구멍을 구멍을 DO-201AA, DO-27, 축 방향 CZ5348 5 w Do-201 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1,400 1.2 v @ 1 a 5 µa @ 8.4 v 11 v 2.5 옴
CLL4729A TR Central Semiconductor Corp CLL4729A TR -
RFQ
ECAD 5056 0.00000000 Central Semiconductor Corp - 테이프 & tr (TR) 쓸모없는 ± 5% -65 ° C ~ 200 ° C 표면 표면 DO-213AB, MELF 1 W. 멜프 다운로드 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1,500 1.2 v @ 200 ma 100 µa @ 1 v 3.6 v 10 옴
CMDZ16L TR PBFREE Central Semiconductor Corp CMDZ16L TR PBFREE 0.5400
RFQ
ECAD 304 0.00000000 Central Semiconductor Corp - 테이프 & tr (TR) 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 150 ° C 표면 표면 SC-76, SOD-323 CMDZ16 250 MW SOD-323 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 3,000 900 mV @ 10 ma 1 µa @ 14 v 16 v 80 옴
CMDZ36L TR PBFREE Central Semiconductor Corp CMDZ36L TR PBFREE 0.8100
RFQ
ECAD 329 0.00000000 Central Semiconductor Corp - 테이프 & tr (TR) 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 150 ° C 표면 표면 SC-76, SOD-323 CMDZ36 250 MW SOD-323 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 3,000 900 mV @ 10 ma 1 µa @ 33 v 36 v 300 옴
JANTXV1N6322 Microchip Technology jantxv1n6322 14.6700
RFQ
ECAD 6255 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/533 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N6322 500MW DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.4 V @ 1 a 1 µa @ 6 v 8.2 v 5 옴
JANTX1N6323CUS Microchip Technology jantx1n6323cus 46.3350
RFQ
ECAD 3767 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/533 대부분 활동적인 ± 2% -65 ° C ~ 175 ° C 표면 표면 SQ-Melf, b 1N6323 500MW B, SQ-Mell 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.4 V @ 1 a 1 µa @ 7 v 9.1 v 6 옴
JAN1N6324 Microchip Technology JAN1N6324 9.9000
RFQ
ECAD 9792 0.00000000 마이크로 마이크로 기술 군사, MIL-PRF-19500/533 대부분 활동적인 ± 5% -65 ° C ~ 175 ° C 구멍을 구멍을 Do-204Ah, do-35, 축 방향 1N6324 500MW DO-35 (DO-204AH) 다운로드 rohs 비준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8541.10.0050 1 1.4 V @ 1 a 1 µa @ 8 v 10 v 6 옴
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고