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영상 제품 제품 가격 (USD) 수량 ECAD 사용 사용 수량 체중 (kg) Mfr 시리즈 패키지 제품 제품 정전 정전 용인 전압 - 평가 작동 작동 등급 응용 응용 리드 리드 크기 / 치수 높이- 최대 (좌석) 장착 장착 패키지 / 케이스 특징 온도 온도 실패율 두께 (최대) 리드 리드 데이터 데이터 rohs 상태 수분 수분 수준 (MSL) 상태에 상태에 다른 다른 ECCN HTSUS 표준 표준
C1206C0G101-221KNP-CT Venkel C1206C0G101-21KNP-CT 0.1000
RFQ
ECAD 890 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 220 pf ± 10% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G101-221KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R500-102MNP-CT Venkel C1206X7R500-102MNP-CT 0.0774
RFQ
ECAD 24 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1000 pf ± 20% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R500-102MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603Y5V100-105MNP-CT Venkel C0603Y5V100-105MNP-CT 0.0286
RFQ
ECAD 335 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1 µF ± 20% 10V -30 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - Y5V (F) - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603Y5V100-105MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R501-122KNE-CT Venkel C1206X7R501-122KNE-CT -
RFQ
ECAD 7504 0.00000000 벤켈 HVC 조각 활동적인 1200 PF ± 10% 500V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) 고전압 x7r - 0.053 "(1.35mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R501-122KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R500-182KNE-CT Venkel C0402X7R500-182KNE-CT 0.0100
RFQ
ECAD 8 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1800 PF ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R500-182KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R500-222KNE-CT Venkel C0402X7R500-222KNE-CT 0.0110
RFQ
ECAD 500 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 2200 PF ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R500-222KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X5R500-103MNP-CT Venkel C0805X5R500-103MNP-CT 0.0305
RFQ
ECAD 479 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10000 PF ± 20% 50V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x5r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X500-103MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R100-684MNP-CT Venkel C0805X7R100-684MNP-CT 0.1202
RFQ
ECAD 73 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.68 µF ± 20% 10V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.057 "(1.45mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R100-684MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R160-473KNP-CT Venkel C0402X7R160-473KNP-CT 0.0100
RFQ
ECAD 15 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.047 µF ± 10% 16V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R160-473KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R250-104JNE-CT Venkel C0603X7R250-104JNE-CT 0.0200
RFQ
ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 5% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R250-104JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0201X7R6R3-472KNP-CT Venkel C0201X7R6R3-472KNP-CT 0.0122
RFQ
ECAD 150 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 4700 pf ± 10% 6.3V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.024 "L x 0.012"W (0.60mm x 0.30mm) - 표면 표면, MLCC 0201 (0603 메트릭) - x7r - 0.013 "(0.33mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0201X7R6R3-472KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R500-104JNP-CT Venkel C0603X7R500-104JNP-CT 0.0200
RFQ
ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R500-104JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R160-102KNP-CT Venkel C0603X7R160-102KNP-CT 0.0122
RFQ
ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1000 pf ± 10% 16V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R160-102KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206Y5V100-106ZNE-CT Venkel C1206Y5V100-106ZNE-CT 0.1529
RFQ
ECAD 8 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10 µF -20%, +80% 10V -30 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - Y5V (F) - 0.071 "(1.80mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206Y5V100-106ZNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R101-104MNE-CT Venkel C1206X7R101-104MNE-CT 0.0806
RFQ
ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 20% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r - 0.055 "(1.40mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R101-104MNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R250-102MNP-CT Venkel C0805x7R250-102MNP-CT 0.0305
RFQ
ECAD 418 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1000 pf ± 20% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R250-102MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1210X7R100-475KNE-CT Venkel C1210X7R100-475KNE-CT 0.4396
RFQ
ECAD 26 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 4.7 µF ± 10% 10V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.100"W (3.18mm x 2.54mm) - 표면 표면, MLCC 1210 (3225 메트릭) - x7r - 0.110 "(2.80mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1210X7R100-475KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206C0G101-151JNP-CT Venkel C1206C0G101-151JNP-CT 0.0855
RFQ
ECAD 15 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 150 pf ± 5% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G101-151JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603C0G500-470JNE-CT Venkel C0603C0G500-470JNE-CT 0.0200
RFQ
ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 47 PF ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603C0G500-470JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603C0G500-151FNE-CT Venkel C0603C0G500-151FNE-CT 0.0879
RFQ
ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 150 pf ± 1% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603C0G500-151FNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R500-103MNP-CT Venkel C0603X7R500-103MNP-CT 0.0122
RFQ
ECAD 6 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10000 PF ± 20% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R500-103MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R160-224MNE-CT Venkel C0805x7R160-224MNE-CT 0.0611
RFQ
ECAD 52 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.22 µF ± 20% 16V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.053 "(1.35mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R160-224MNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X5R100-103KNP-CT Venkel C0603X5R100-103KNP-CT 0.0122
RFQ
ECAD 6 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10000 PF ± 10% 10V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x5r - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X5R100-103KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805C0G500-272JNE-CT Venkel C0805C0G500-272JNE-CT 0.1099
RFQ
ECAD 6 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 2700 PF ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - C0G, NP0 - 0.053 "(1.35mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805C0G500-272JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805C0G201-121JNE-CT Venkel C0805C0G201-121JNE-CT 0.0733
RFQ
ECAD 1 0.00000000 벤켈 HVC 조각 활동적인 120 pf ± 5% 200V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) 고전압 C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805C0G201-121JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0201X6S6R3-104KNP-CT Venkel C0201X6S6R3-104KNP-CT 0.0300
RFQ
ECAD 14 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 10% 6.3V -55 ° C ~ 105 ° C - 범용 - 0.024 "L x 0.012"W (0.60mm x 0.30mm) - 표면 표면, MLCC 0201 (0603 메트릭) - x6s - 0.013 "(0.33mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0201X6S6S6S6R3-104KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603C0G250-220JNE-CT Venkel C0603C0G250-220JNE-CT 0.0183
RFQ
ECAD 142 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 22 PF ± 5% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603C0G250-220JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R101-102MNP-CT Venkel C1206X7R101-102MNP-CT 0.0774
RFQ
ECAD 24 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1000 pf ± 20% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R101-102MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G250-151KNP-CT Venkel C0402C0G250-151KNP-CT 0.0122
RFQ
ECAD 7 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 150 pf ± 10% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G250-151KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R6R3-104KNE-CT Venkel C0402X7R6R3-104KNE-CT 0.0073
RFQ
ECAD 14 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 10% 6.3V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R6R3-104KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고