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영상 제품 제품 가격 (USD) 수량 ECAD 사용 사용 수량 체중 (kg) Mfr 시리즈 패키지 제품 제품 정전 정전 용인 전압 - 평가 작동 작동 등급 응용 응용 리드 리드 크기 / 치수 높이- 최대 (좌석) 장착 장착 패키지 / 케이스 특징 온도 온도 실패율 두께 (최대) 리드 리드 데이터 데이터 rohs 상태 수분 수분 수준 (MSL) 상태에 상태에 다른 다른 ECCN HTSUS 표준 표준
C1206X7R500-473KNP-CT Venkel C1206X7R500-473KNP-CT 0.0800
RFQ
 ECAD 3 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.047 µF ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R500-473KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X5R6R3-106KNP-CT Venkel C0603X5R6R3-106KNP-CT 0.0900
RFQ
 ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10 µF ± 10% 6.3V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x5r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X5R6R3-106KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R500-224KNE-CT Venkel C0805x7R500-224KNE-CT 0.0600
RFQ
 ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.22 µF ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.053 "(1.35mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R500-224KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402HQN500-0R7BNE-CT Venkel C0402HQN500-0R7BNE-CT 0.0322
RFQ
 ECAD 140 0.00000000 벤켈 HQN 조각 활동적인 0.7 pf ± 0.1pf 50V -55 ° C ~ 125 ° C - rf, 레인지 전자, 고주파 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) 높은 Q, 낮은, C0G, NP0 - 0.022 "(0.56mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402HQN500-0R7BNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R100-104KNE-CT Venkel C1206X7R100-104KNE-CT 0.0611
RFQ
 ECAD 786 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 10% 10V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R100-104KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X5R6R3-105KNP-CT Venkel C0603X5R6R3-105KNP-CT 0.0286
RFQ
 ECAD 344 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1 µF ± 10% 6.3V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x5r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X5R6R3-105KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R500-224JNE-CT Venkel C0805X7R500-224JNE-CT 0.1400
RFQ
 ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.22 µF ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.053 "(1.35mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R500-224JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603C0G101-2R7CNP-CT Venkel C0603C0G101-2R7CNP-CT 0.0238
RFQ
 ECAD 88 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 2.7 pf ± 0.25pf 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603C0G101-2R7CNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R160-473JNP-CT Venkel C0603X7R160-473JNP-CT 0.0275
RFQ
 ECAD 131 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.047 µF ± 5% 16V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R160-473JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206C0G500-104JNE-CT Venkel C1206C0G500-104JNE-CT 0.7937
RFQ
 ECAD 11 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 - 0.071 "(1.80mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G500-104JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X6S6R3-106MNP-CT Venkel C0402X6S6R3-106MNP-CT 0.1200
RFQ
 ECAD 7 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10 µF ± 20% 6.3V -55 ° C ~ 105 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x6s - 0.028 "(0.70mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X6S6R3-106MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R500-151KNP-CT Venkel C0402X7R500-151KNP-CT 0.0100
RFQ
 ECAD 9 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 150 pf ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R500-151KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R250-391JNP-CT Venkel C0402X7R250-391JNP-CT 0.0122
RFQ
 ECAD 227 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 390 pf ± 5% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R250-391JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603C0G101-331JNP-CT Venkel C0603C0G101-331JNP-CT 0.0244
RFQ
 ECAD 79 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 330 pf ± 5% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603C0G101-331JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603C0G101-1R0BNP-CT Venkel C0603C0G101-1R0BNP-CT 0.0366
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1 PF ± 0.1pf 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - C0G, NP0 - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603C0G101-1R0BNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206C0G101-221KNP-CT Venkel C1206C0G101-21KNP-CT 0.1000
RFQ
 ECAD 890 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 220 pf ± 10% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G101-221KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R500-102MNP-CT Venkel C1206X7R500-102MNP-CT 0.0774
RFQ
 ECAD 24 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1000 pf ± 20% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R500-102MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603Y5V100-105MNP-CT Venkel C0603Y5V100-105MNP-CT 0.0286
RFQ
 ECAD 335 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1 µF ± 20% 10V -30 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - Y5V (F) - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603Y5V100-105MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R501-122KNE-CT Venkel C1206X7R501-122KNE-CT -
RFQ
 ECAD 7504 0.00000000 벤켈 HVC 조각 활동적인 1200 PF ± 10% 500V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) 고전압 x7r - 0.053 "(1.35mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R501-122KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R500-222KNE-CT Venkel C0402X7R500-222KNE-CT 0.0110
RFQ
 ECAD 500 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 2200 PF ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) - 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r - 0.022 "(0.55mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R500-222KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X5R500-103MNP-CT Venkel C0805X5R500-103MNP-CT 0.0305
RFQ
 ECAD 479 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10000 PF ± 20% 50V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x5r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X500-103MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R100-684MNP-CT Venkel C0805X7R100-684MNP-CT 0.1202
RFQ
 ECAD 73 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.68 µF ± 20% 10V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.057 "(1.45mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R100-684MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R250-104JNE-CT Venkel C0603X7R250-104JNE-CT 0.0200
RFQ
 ECAD 2 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 5% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r - 0.036 "(0.91mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R250-104JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X5R160-106KNP-CT Venkel C0603X5R160-106KNP-CT 0.2000
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 16V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x5r 0.039 "(1.00mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X5R160-106KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
SAFC1812X7R202-472KNE-CT Venkel SAFC1812X7R202-472KNE-CT 1.6000
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 SAFC 조각 활동적인 ± 10% 250vac -55 ° C ~ 125 ° C x2 안전 0.180 "L x 0.125"W (4.57mm x 3.17mm) 표면 표면, MLCC 1812 (4532 메트릭) 고전압 x7r 0.071 "(1.80mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-SAFC1812X7R202-472KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G250-100FNP-CT Venkel C0402C0G250-100FNP-CT 0.0183
RFQ
 ECAD 15 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 1% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G250-100FNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X5R100-474KNP-CT Venkel C0402X5R100-474KNP-CT 0.0300
RFQ
 ECAD 9 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 10V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x5r 0.022 "(0.56mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X5R100-474KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805C0G250-332GNP-CT Venkel C0805C0G250-332GNP-CT -
RFQ
 ECAD 5021 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 2% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - C0G, NP0 0.053 "(1.35mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805C0G250-332GNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603Z5U250-103MNE-CT Venkel C0603Z5U250-103MNE-CT 0.0122
RFQ
 ECAD 6 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 20% 25V 10 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - Z5U 0.036 "(0.91mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603Z5U250-103MNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G500-681KNP-CT Venkel C0402C0G500-681KNP-CT 0.0244
RFQ
 ECAD 189 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G500-681KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고

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AD9208BBPZ-3000

196-LFBGA 노출 패드

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