SIC
close

커패시터 (5718)

영상 제품 제품 가격 (USD) 수량 ECAD 사용 사용 수량 체중 (kg) Mfr 시리즈 패키지 제품 제품 정전 정전 용인 전압 - 평가 작동 작동 등급 응용 응용 리드 리드 크기 / 치수 높이- 최대 (좌석) 장착 장착 패키지 / 케이스 특징 온도 온도 실패율 두께 (최대) 리드 리드 데이터 데이터 rohs 상태 수분 수분 수준 (MSL) 상태에 상태에 다른 다른 ECCN HTSUS 표준 표준
C0805X5R500-104MNP-CT Venkel C0805x5R500-104MNP-CT 0.0305
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 0.1 µF ± 20% 50V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x5r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X500-104MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R500-103MNP-CT Venkel C0805x7R500-103MNP-CT 0.0305
RFQ
 ECAD 479 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10000 PF ± 20% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) - 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R500-103MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206C0G500-221JNP-CT Venkel C1206C0G500-221JNP-CT 0.1055
RFQ
 ECAD 66 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 220 pf ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) - 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G500-221JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603Y5V100-105ZNP-CT Venkel C0603Y5V100-105ZNP-CT 0.0286
RFQ
 ECAD 335 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 1 µF -20%, +80% 10V -30 ° C ~ 85 ° C - 범용 - 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) - 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - Y5V (F) - 0.035 "(0.90mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603Y5V100-105ZNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0201C0G500-100JNP-CT Venkel C0201C0G500-100JNP-CT 0.0100
RFQ
 ECAD 13 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 10 pf ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 - 0.024 "L x 0.012"W (0.60mm x 0.30mm) - 표면 표면, MLCC 0201 (0603 메트릭) - C0G, NP0 - 0.013 "(0.33mm) - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0201C0G500-100JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603Y5V500-104ZNE-CT Venkel C0603Y5V500-104ZNE-CT 0.0200
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 -20%, +80% 50V -30 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - Y5V (F) 0.036 "(0.91mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603Y5V500-104ZNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G250-0R8BNE-CT Venkel C0402C0G250-0R8BNE-CT 0.0244
RFQ
 ECAD 89 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 0.1pf 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G250-0R8BNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206C0G250-151KNP-CT Venkel C1206C0G250-151KNP-CT 0.0855
RFQ
 ECAD 12 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 0.035 "(0.90mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G250-151KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X5R100-225MNE-CT Venkel C0603X5R100-225MNE-CT 0.0462
RFQ
 ECAD 103 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 20% 10V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x5r 0.036 "(0.91mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X5R100-225MNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0201C0G500-330JNP-CT Venkel C0201C0G500-330JNP-CT 0.0072
RFQ
 ECAD 7310 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.024 "L x 0.012"W (0.60mm x 0.30mm) 표면 표면, MLCC 0201 (0603 메트릭) - C0G, NP0 0.013 "(0.33mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0201C0G500-330JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206Y5V160-105ZNE-CT Venkel C1206Y5V160-105ZNE-CT -
RFQ
 ECAD 6694 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 -20%, +80% 16V -30 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - Y5V (F) 0.071 "(1.80mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206Y5V160-105ZNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G500-101JNP-CT Venkel C0402C0G500-101JNP-CT 0.0100
RFQ
 ECAD 17 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G500-101JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G250-560JNE-CT Venkel C0402C0G250-560JNE-CT 0.0073
RFQ
 ECAD 68 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 5% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G250-560JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206C0G250-562GNP-CT Venkel C1206C0G250-562GNP-CT 0.2198
RFQ
 ECAD 20 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 2% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - C0G, NP0 0.035 "(0.90mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206C0G250-562GNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R250-102KNP-CT Venkel C0402X7R250-102KNP-CT 0.0073
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R250-102KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X7R500-271JNP-CT Venkel C0402X7R500-271JNP-CT 0.0122
RFQ
 ECAD 10 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x7r 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X7R500-271JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R500-223KNE-CT Venkel C1206X7R500-223KNE-CT 0.0879
RFQ
 ECAD 54 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r 0.035 "(0.90mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R500-223KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1206X7R250-102KNE-CT Venkel C1206X7R250-102KNE-CT 0.0774
RFQ
 ECAD 24 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.125 "L x 0.060"W (3.18mm x 1.52mm) 표면 표면, MLCC 1206 (3216 메트릭) - x7r 0.035 "(0.90mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1206X7R250-102KNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402HQN250-1R8BNP-CT Venkel C0402HQN250-1R8BNP-CT 0.0403
RFQ
 ECAD 19 0.00000000 벤켈 HQN 조각 활동적인 ± 0.1pf 25V -55 ° C ~ 125 ° C - rf, 레인지 전자, 고주파 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) 높은 Q, 낮은, C0G, NP0 0.022 "(0.56mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402HQN250-1R8BNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X5R100-223KNP-CT Venkel C0603X5R100-223KNP-CT 0.0242
RFQ
 ECAD 4 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 10V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x5r 0.036 "(0.91mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X5R100-223KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1210X7R500-224MNE-CT Venkel C1210X7R500-224MNE-CT 0.2743
RFQ
 ECAD 24 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 20% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.125 "L x 0.100"W (3.18mm x 2.54mm) 표면 표면, MLCC 1210 (3225 메트릭) - x7r 0.053 "(1.35mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1210X7R500-224MNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G500-470JNP-CT Venkel C0402C0G500-470JNP-CT 0.0100
RFQ
 ECAD 16 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 5% 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G500-470JNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402X5R160-103KNP-CT Venkel C0402X5R160-103KNP-CT 0.0073
RFQ
 ECAD 3 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 10% 16V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - x5r 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402X5R160-103KNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C1210X7R250-475MNE-CT Venkel C1210X7R250-475MNE-CT 0.4396
RFQ
 ECAD 26 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 20% 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.125 "L x 0.100"W (3.18mm x 2.54mm) 표면 표면, MLCC 1210 (3225 메트릭) - x7r 0.110 "(2.80mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C1210X7R250-475MNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0603X7R101-682JNE-CT Venkel C0603X7R101-682JNE-CT 0.0366
RFQ
 ECAD 11 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 5% 100V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.063 "L x 0.031"W (1.60mm x 0.80mm) 표면 표면, MLCC 0603 (1608 메트릭) - x7r 0.036 "(0.91mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0603X7R101-682JNE-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G250-1R8BNP-CT Venkel C0402C0G250-1R8BNP-CT 0.0147
RFQ
 ECAD 168 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 0.1pf 25V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G250-1R8BNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0402C0G500-1R8BNP-CT Venkel C0402C0G500-1R8BNP-CT 0.0147
RFQ
 ECAD 168 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 0.1pf 50V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.039 "L x 0.020"W (1.00mm x 0.50mm) 표면 표면, MLCC 0402 (1005 메트릭) - C0G, NP0 0.022 "(0.55mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0402C0G500-1R8BNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0805X7R160-104MNP-CT Venkel C0805x7R160-104MNP-CT 0.0305
RFQ
 ECAD 1 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 20% 16V -55 ° C ~ 125 ° C - 범용 0.080 "L x 0.050"W (2.03mm x 1.27mm) 표면 표면, MLCC 0805 (2012 5) - x7r 0.035 "(0.90mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0805X7R160-104MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0201HQN250-1R2CNP-CT Venkel C0201HQN250-1R2CNP-CT 0.0366
RFQ
 ECAD 60 0.00000000 벤켈 HQN 조각 활동적인 ± 0.25pf 25V -55 ° C ~ 125 ° C - rf, 레인지 전자, 고주파 0.024 "L x 0.012"W (0.60mm x 0.30mm) 표면 표면, MLCC 0201 (0603 메트릭) 높은 Q, 낮은, C0G, NP0 0.013 "(0.33mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0201HQN250-1R2CNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
C0201X5R6R3-105MNP-CT Venkel C0201X5R6R3-105MNP-CT 0.0175
RFQ
 ECAD 658 0.00000000 벤켈 기음 조각 활동적인 ± 20% 6.3V -55 ° C ~ 85 ° C - 범용 0.024 "L x 0.012"W (0.60mm x 0.30mm) 표면 표면, MLCC 0201 (0603 메트릭) - x5r 0.013 "(0.33mm) 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 2679-C0201X5R6R3-105MNP-CT 귀 99 8532.24.0020 100
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고

RFQ 목록 (0 항목)
카트 목록 (0 항목)
Wishlist위시리스트 (0 항목)
SIC
AD9208BBPZ-3000

196-LFBGA 노출 패드

수량 : 1

목록 비교 (0 항목)
검색을 위해 Enter를 누르거나 ESC를 닫습니다