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199D686X0010D1V1E3 Vishay Sprague 199D686X0010D1V1E3 2.0515
RFQ
ECAD 7000 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 68 µF ± 20% 10 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D686X9010D6V1E3 Vishay Sprague 199D686X9010D6V1E3 2.0515
RFQ
ECAD 5910 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 68 µF ± 10% 10 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.200 "(5.08mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.498 "(12.66mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
109D106X9025C2 Vishay Sprague 109d106x9025c2 35.5768
RFQ
ECAD 8698 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 109d 쟁반 활동적인 10 µF ± 10% 25 v 6ohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.219 "dia x 0.608"L (5.56mm x 15.45mm) - 구멍을 구멍을 밀봉되었습니다 젖은 젖은 룸 - 다운로드 rohs 비준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0080 1 기음
109D147X9006F2 Vishay Sprague 109D147X9006F2 39.2268
RFQ
ECAD 5331 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 109d 쟁반 활동적인 140 µF ± 10% 6 v 2ohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.312 "dia x 0.796"L (7.92mm x 20.22mm) - 구멍을 구멍을 밀봉되었습니다 젖은 젖은 룸 - 다운로드 rohs 비준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0080 1 에프
109D566X9100T2 Vishay Sprague 109D566X9100T2 -
RFQ
ECAD 1729 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 109d 쟁반 활동적인 56 µF ± 10% 100 v 2.2ohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.406 "dia x 0.921"L (10.31mm x 23.40mm) - 구멍을 구멍을 밀봉되었습니다 젖은 젖은 룸 - 다운로드 rohs 비준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0080 20
109D566X9125K2 Vishay Sprague 109d566x9125k2 80.1530
RFQ
ECAD 9478 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 109d 쟁반 활동적인 56 µF ± 10% 125 v 4.1ohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.406 "DIA X 1.217"L (10.31mm x 30.91mm) - 구멍을 구멍을 밀봉되었습니다 젖은 젖은 룸 - 다운로드 rohs 비준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0080 1 케이
199D105X9025A7V1E3 Vishay Sprague 199D105X9025A7V1E3 0.5540
RFQ
ECAD 8446 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 1 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.250 "(6.35mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.378 "(9.61mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D106X06R3B2V1E3 Vishay Sprague 199D106X06R3B2V1E3 0.5459
RFQ
ECAD 4934 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 10 µF ± 20% 6.3 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.197 "dia (5.00mm) 0.300 "(7.62mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000
199D106X9035DXV1E3 Vishay Sprague 199D106X9035DXV1E3 1.5773
RFQ
ECAD 6358 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 10 µF ± 10% 35 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.460 "(11.68mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D126X9025D1V1E3 Vishay Sprague 199D126X9025D1V1E3 1.5659
RFQ
ECAD 7888 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 12 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D154X9050A1V1E3 Vishay Sprague 199D154X9050A1V1E3 0.5333
RFQ
ECAD 3971 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 0.15 µF ± 10% 50 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.280 "(7.11mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D155X9025AXV1E3 Vishay Sprague 199D155X9025AXV1E3 0.4484
RFQ
ECAD 5387 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 1.5 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.340 "(8.64mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D225X0016AXV1E3 Vishay Sprague 199D225X0016AXV1E3 0.4795
RFQ
ECAD 9963 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 20% 16 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.340 "(8.64mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D226X9020D2V1E3 Vishay Sprague 199D226X9020D2V1E3 1.4874
RFQ
ECAD 1681 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 20 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X9025D7V1E3 Vishay Sprague 199D226X9025D7V1E3 2.1089
RFQ
ECAD 7699 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.250 "(6.35mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.498 "(12.66mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D274X9035A1V1E3 Vishay Sprague 199D274X9035A1V1E3 0.4795
RFQ
ECAD 2710 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 0.27 µF ± 10% 35 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.280 "(7.11mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D334X9035AXV1E3 Vishay Sprague 199D334X9035AXV1E3 0.4484
RFQ
ECAD 6435 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 0.33 µF ± 10% 35 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.340 "(8.64mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D335X0050D6V1E3 Vishay Sprague 199D335X0050D6V1E3 0.9227
RFQ
ECAD 4987 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 3.3 µF ± 20% 50 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.200 "(5.08mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.498 "(12.66mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D335X9010A2V1E3 Vishay Sprague 199D335x9010A2V1E3 0.4484
RFQ
ECAD 8635 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 3.3 µF ± 10% 10 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.280 "(7.11mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D335X9025BXV1E3 Vishay Sprague 199D335x9025BXV1E3 0.5459
RFQ
ECAD 7037 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 3.3 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.197 "dia (5.00mm) 0.360 "(9.14mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000
TR3C107M010C0200 Vishay Sprague TR3C107M010C0200 1.0300
RFQ
ECAD 1 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 100 µf ± 20% 10 v 200mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.236 "L x 0.126"W (6.00mm x 3.20mm) 0.110 "(2.79mm) 표면 표면 2312 (6032 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500 기음
TR3C225K035C0900 Vishay Sprague TR3C225K035C0900 1.0400
RFQ
ECAD 130 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 2.2 µF ± 10% 35 v 900mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.236 "L x 0.126"W (6.00mm x 3.20mm) 0.110 "(2.79mm) 표면 표면 2312 (6032 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500 기음
TR3D107K010C0080 Vishay Sprague TR3D107K010C0080 1.4400
RFQ
ECAD 891 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 100 µf ± 10% 10 v 80mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D157K6R3C0050 Vishay Sprague TR3D157K6R3C0050 2.3200
RFQ
ECAD 1 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 150 µF ± 10% 6.3 v 50mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D226K020C0225 Vishay Sprague TR3D226K020C0225 0.5820
RFQ
ECAD 3539 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 22 µF ± 10% 20 v 225mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D226K035C0300 Vishay Sprague TR3D226K035C0300 1.8300
RFQ
ECAD 292 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 22 µF ± 10% 35 v 300mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D226M025C0200 Vishay Sprague TR3D226M025C0200 0.6635
RFQ
ECAD 9070 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 22 µF ± 20% 25 v 200mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D336M016C0225 Vishay Sprague TR3336M016C0225 0.5443
RFQ
ECAD 5669 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 33 µF ± 20% 16 v 225mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D477M004C0060 Vishay Sprague TR3D477M004C0060 1.1930
RFQ
ECAD 5927 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 470 µF ± 20% 4 v 60mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3D685K035C0300 Vishay Sprague TR3D685K035C0300 1.3000
RFQ
ECAD 591 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 6.8 µF ± 10% 35 v 300mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고