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293D107X9004A2TE3 Vishay Sprague 293D107X9004A2TE3 -
RFQ
ECAD 9888 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, 293d 테이프 & tr (TR) 활동적인 100 µf ± 10% 4 v 2.5ohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.126 "L x 0.063"W (3.20mm x 1.60mm) 0.071 "(1.80mm) 표면 표면 1206 (3216 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 2,000 에이
293D107X9020D2TE3 Vishay Sprague 293D107X9020D2TE3 1.2700
RFQ
ECAD 43 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, 293d 테이프 & tr (TR) 활동적인 100 µf ± 10% 20 v 600mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
293D337X9010D2TE3 Vishay Sprague 293D337X9010D2TE3 1.9500
RFQ
ECAD 31 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, 293d 테이프 & tr (TR) 활동적인 330 µf ± 10% 10 v 500mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
293D476X9025E2TE3 Vishay Sprague 293D476X9025E2TE3 1.1200
RFQ
ECAD 30 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, 293d 테이프 & tr (TR) 활동적인 47 µF ± 10% 25 v 600mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.170 "(4.32mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 400 이자형
293D477X9010E2TE3 Vishay Sprague 293D477X9010E2TE3 2.1300
RFQ
ECAD 23 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, 293d 테이프 & tr (TR) 활동적인 470 µF ± 10% 10 v 500mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.170 "(4.32mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 400 이자형
TR3A475K016C1500 Vishay Sprague TR3A475K016C1500 0.7600
RFQ
ECAD 3 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 4.7 µF ± 10% 16 v 1.5ohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.126 "L x 0.063"W (3.20mm x 1.60mm) 0.071 "(1.80mm) 표면 표면 1206 (3216 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 2,000 에이
TR3B156K025C0600 Vishay Sprague TR3B156K025C0600 1.3200
RFQ
ECAD 26 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 15 µF ± 10% 25 v 600mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.138 "L x 0.110"W (3.50mm x 2.80mm) 0.083 "(2.11mm) 표면 표면 1411 (3528 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 2,000
TR3C227K6R3C0225 Vishay Sprague TR3C227K6R3C0225 0.5055
RFQ
ECAD 3608 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 220 µF ± 10% 6.3 v 225mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.236 "L x 0.126"W (6.00mm x 3.20mm) 0.110 "(2.79mm) 표면 표면 2312 (6032 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500 기음
TR3C475K035C0600 Vishay Sprague TR3C475K035C0600 1.0600
RFQ
ECAD 975 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 4.7 µF ± 10% 35 v 600mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.236 "L x 0.126"W (6.00mm x 3.20mm) 0.110 "(2.79mm) 표면 표면 2312 (6032 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500 기음
TR3D477K6R3C0100 Vishay Sprague TR3D477K6R3C0100 1.8200
RFQ
ECAD 5 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 470 µF ± 10% 6.3 v 100mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.122 "(3.10mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 500
TR3E107K010C0100 Vishay Sprague TR3E107K010C0100 2.1500
RFQ
ECAD 540 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 100 µf ± 10% 10 v 100mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.170 "(4.32mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 400 이자형
TR3E686K020C0120 Vishay Sprague TR3E686K020C0120 1.7586
RFQ
ECAD 1078 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, TR3 테이프 & tr (TR) 활동적인 68 µF ± 10% 20 v 120mohm - -55 ° C ~ 125 ° C - 0.287 "LX 0.169"W (7.30mm x 4.30mm) 0.170 "(4.32mm) 표면 표면 2917 (7343 메트릭) 성형 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 1 (무제한) 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0050 400 이자형
T97F226K063EAB Vishay Sprague T97F226K063EAB 21.0700
RFQ
ECAD 610 0.00000000 Vishay Sprague Tantamount®, T97 테이프 & tr (TR) 활동적인 22 µF ± 10% 63 v 250mohm - -55 ° C ~ 85 ° C 침대 - 0.299 "L x 0.236"W (7.60mm x 6.00mm) 0.201 "(5.10mm) 표면 표면 3024 (7660 메트릭) 적합성 코팅 높은 높은 - 다운로드 rohs 비준수 2A (4 주) 귀 99 8532.21.0050 250 에프
199D225X0016AXV1E3 Vishay Sprague 199D225X0016AXV1E3 0.4795
RFQ
ECAD 9963 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 20% 16 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.340 "(8.64mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D225X0025A6V1E3 Vishay Sprague 199D225X0025A6V1E3 0.5281
RFQ
ECAD 7836 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 20% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.200 "(5.08mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.378 "(9.61mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D225X0035B2V1E3 Vishay Sprague 199D225X0035B2V1E3 0.6188
RFQ
ECAD 2450 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 20% 35 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.197 "dia (5.00mm) 0.300 "(7.62mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000
199D225X0035BXV1E3 Vishay Sprague 199D225X0035BXV1E3 0.6188
RFQ
ECAD 8182 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 20% 35 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.197 "dia (5.00mm) 0.360 "(9.14mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000
199D225X0050C6V1E3 Vishay Sprague 199D225X0050C6V1E3 0.8916
RFQ
ECAD 8696 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 20% 50 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.200 "(5.08mm) 0.217 "dia (5.50mm) 0.458 "(11.64mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500 기음
199D225X5020AXV1E3 Vishay Sprague 199D225x5020AXV1E3 0.6286
RFQ
ECAD 9122 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 2.2 µF ± 5% 20 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.173 "DIA (4.40mm) 0.340 "(8.64mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 1,000 에이
199D226X0016D7V1E3 Vishay Sprague 199D226X0016D7V1E3 0.9867
RFQ
ECAD 6683 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 20% 16 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.250 "(6.35mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.498 "(12.66mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X0025D2V1E3 Vishay Sprague 199D226X0025D2V1E3 2.0515
RFQ
ECAD 4369 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 20% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X0025DXV1E3 Vishay Sprague 199D226X0025DXV1E3 2.0135
RFQ
ECAD 8254 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 20% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.460 "(11.68mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X06R3C2V1E3 Vishay Sprague 199D226X06R3C2V1E3 0.6992
RFQ
ECAD 9127 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 20% 6.3 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.217 "dia (5.50mm) 0.360 "(9.14mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500 기음
199D226X9016D2V1E3 Vishay Sprague 199D226X9016D2V1E3 0.8053
RFQ
ECAD 9107 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 16 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X9020D2V1E3 Vishay Sprague 199D226X9020D2V1E3 1.4874
RFQ
ECAD 1681 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 20 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X9025D2V1E3 Vishay Sprague 199D226X9025D2V1E3 1.9185
RFQ
ECAD 3862 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.400 "(10.16mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X9025D7V1E3 Vishay Sprague 199D226X9025D7V1E3 2.1089
RFQ
ECAD 7699 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.250 "(6.35mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.498 "(12.66mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X9025DXV1E3 Vishay Sprague 199D226X9025DXV1E3 2.0515
RFQ
ECAD 1864 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 25 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.236 "dia (6.00mm) 0.460 "(11.68mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500
199D226X96R3C2V1E3 Vishay Sprague 199D226X96R3C2V1E3 0.6662
RFQ
ECAD 1199 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 22 µF ± 10% 6.3 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.100 "(2.54mm) 0.217 "dia (5.50mm) 0.360 "(9.14mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 500 기음
199D227X96R3E6V1E3 Vishay Sprague 199D227X96R3E6V1E3 5.6333
RFQ
ECAD 6188 0.00000000 Vishay Sprague Tantalex®, 199d 대부분 활동적인 220 µF ± 10% 6.3 v - 1000 시간 @ 85 ° C -55 ° C ~ 125 ° C 0.200 "(5.08mm) 0.339 "DIA (8.60mm) 0.591 "(15.00mm) 구멍을 구멍을 방사형 적합성 코팅 범용 - 다운로드 Rohs3 준수 적용 적용 수 할 영향을받지 영향을받지 귀 99 8532.21.0040 100 이자형
  • Daily average RFQ Volume

    2000+

    일일 평균 RFQ 볼륨

  • Standard Product Unit

    30,000,000

    표준 제품 단위

  • Worldwide Manufacturers

    2800+

    전 세계 제조업체

  • In-stock Warehouse

    15,000m2

    재고 창고